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光掩膜的應(yīng)用

光掩膜用于芯片制造,主要是IC(集成電路)芯片,還應(yīng)用于制作純平顯示器、薄膜磁頭以及PC板等。
光掩膜所起的作用類似于底片之于相片,光刻通過光掩膜在芯片上顯影。如果圖形通過掩膜版在芯片兩面多次顯影,這種方法就是熟稱的曝光,這個時候的掩膜也可稱為光罩。

鉻版主要應(yīng)用于:
TFT-LCD、CF、CSTN-LCD、STN-LCD、TN-LCD、EL、OLED、PDP、VFD等平板顯示行業(yè);
HDI、FPC等印制線路板行業(yè);
IC Bumping、IC基板、導(dǎo)線架等IC相關(guān)行業(yè);
MENS、SENSOR和ENODER等精細電子元器件行業(yè)。


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